MASCARA DESC.C/VALVULA FFP2 NR D 9322+ 3M*

  • MASCARA DESC.C/VALVULA FFP2 NR D 9322+ 3M*
20130

MASCARA DESC.C/VALVULA FFP2 NR D 9322+ 3M*

  • Marca: 3M
Disponibilidade: Imediata (Salvo Ruptura)
Embalagem: 10 UN ou múltiplos

Se já é nosso cliente inicie sessão na sua conta ou crie uma conta cliente!

Máscara Descartável FFP2 NR D Plana C/ Válvula
• Plana - Design patenteado em 3 painéis: ajusta-se a uma grande variedade de formas e tamanhos de rosto; adapta-se aos movimentos faciais; resistente ao colapso: ideal para trabalhar em ambientes quentes e húmidos.
• Novo painel nasal moldável: perfil baixo e curvo; ajusta-se muito bem ao nariz e ao contorno dos olhos; aumenta o campo de visão e a compatibilidade com óculos.
• Novo material filtrante de grande rendimento 3M: Combina as vantagens do material do filtro de partículas Electret da 3M com uma avançada tecnologia de filtro de baixa resistência à respiração; Melhora a facilidade da respiração e o conforto.
• Novo painel defletor: Redirecciona o ar minimizando ainda mais o embaciamento dos óculos.
• Válvula de alta ventilação 3M: Remoção eficiente do calor gerado acumulado, proporcionando uma sensação mais fresca e confortável; Elimina o ar exalado e minimiza o risco de embaciamento dos óculos.
• Nova aba no queixo: Facilita a colocação.
• Compatível com: Protecção ocular 3M; Protecção auditiva 3M.
• Conforto no rosto: O suave revestimento interior é muito cómodo no contacto com o rosto.

• Classificação : EN 149:2001 + A1:2009 FFP3 NR D.
• Protecção: Partículas sólidas e/ou líquidas não voláteis.
• Nível máximo de utilização: 12 x VLA para partículas.

• Embalagem: 10 unidades.

• Designações:
R = Reutilizável
NR = Não reutilizável (utilização única)
D = Cumpre os requisitos de resistência à obstrução.

• EN 149:2001 + A1:2009

• Recomendado para indústrias têxteis, indústrias de metal e ferro, minas e obras subterrâneas, entre outros.
Documentação Técnica
pdf Ficha Técnica (85.7 Kb)
Receba as últimas notícias!
Dê-nos o seu e-mail e você será atualizado diariamente com os últimos eventos!